直接複製晶片布圖“2個點” 設計極小部分相似也侵權
- 發佈時間：2014-09-25 04:33:29 來源：解放日報 責任編輯：羅伯特
本報訊（高遠 陳瓊珂）上海高院前天就上海首例積體電路布圖設計糾紛案，作出駁回上訴請求的終審判決。根據原判，深圳市銳能微科技有限公司應立即停止侵害鉅泉光電科技（上海）股份有限公司享有的ATT7021AU積體電路布圖設計專有權，並賠償經濟損失等共計320萬元。
4年前，專注于智慧電網和物聯網技術研發的鉅泉公司將專業從事積體電路研發、生産、銷售並獲得過“中國半導體創新産品和技術獎”的銳能微公司告上法庭。鉅泉公司指責，銳能微公司的兩個晶片抄襲了自己的ATT7021AU布圖設計。據此，向上海一中院提起訴訟，要求被告立即停止侵權行為、銷毀侵權産品及産品宣傳資料、在相關媒體公開道歉，並賠償1500萬元。值得一提的是，鉅泉公司原銷售經理陳某、原研發部門從事IC設計工作的趙某分別是銳能微公司現任總經理和設計總監。
去年12月24日，一審法院作出相關判決。但鉅泉公司和銳能微公司均不服，提起上訴。上海高院審理認為，積體電路布圖設計的創新空間有限，因此在“相同或實質性相似”的認定上應當採用較為嚴格的標準。依據本案證據認定，雙方晶片的積體電路布圖設計有極小部分構成實質性相似。具體表現為，銳能微公司未經許可直接複製了鉅泉公司晶片布圖設計中的“2個點”並進行商業銷售。儘管它只是佔整個積體電路布圖設計比例很小的非核心部分佈圖設計，但其獨創性也應受到法律保護。
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