澤攸科技自主研製的電子束光刻機實現關鍵突破，有望打破國外技術壁壘

近日，據知情人士透露，國內微納技術領軍企業澤攸科技聯合松山湖材料實驗室，在全自主研發的電子束光刻機整機開發與産業化項目上取得重大進展。他們成功研製出電子束光刻系統，實現了電子束光刻機整機的自主可控。這標誌著國産電子束光刻機研發與産業化邁出關鍵一步。

業內人士表示，電子束光刻機是當前推動新材料、前沿物理、半導體、微電子、光子、量子等研究領域發展的重要裝備之一。我國在這一領域長期面臨技術壁壘，市場高度依賴進口。澤攸科技通過多年技術積累，已構建起完整的電子束技術體系，其産品競爭力和影響力持續提升。

據悉，2023年3月，澤攸科技與松山湖材料實驗室共同投資2400萬元，成立聯合工程中心，目標是打造電子束技術創新基地。工程中心將深入開展電子束與新材料交叉領域的前沿技術研發，實現電子束裝備的自主可控。

圖為澤攸科技（ZEPTOOLS）電子束光刻機部分應用案例

業內人士透露，目前澤攸科技已在自主研製的掃描電鏡基礎上，完成電子束光刻機工程樣機研製，並通過對測試樣片的曝光生産，繪製出高解析度複雜圖形，達到先進水準。這標誌著該公司電子束光刻機自主創新能力的重大提升。下一步該公司將持續完善光刻機性能，以達到批量應用要求。

值得一提的是，去年6月澤攸科技成為首家被Nature系列期刊全文報道的中國科學儀器公司，引起廣泛關注。作為一家專注于原位TEM／SEM解決方案和臺式SEM的公司，澤攸科技已經成功將其産品推向國內外市場，並取得了不錯的成績。澤攸科技也陸續推出了臺階儀、PECVD、低溫探針臺、掃描隧道顯微鏡等産品。

業內人士認為，澤攸科技自主研發的電子束光刻機必將加速實現量産和商業化，這不僅將大幅降低國內晶片製造成本，還將打破國外企業的技術壁壘，使我國實現電子束光刻機技術的自主可控，推動國産替代，保障國家資訊安全。