重慶創新平臺面向全球發佈業內領先硅光工藝

會議現場。聯合微電子供圖，華龍網－新重慶客戶端發

5月28日－30日，第二屆中歐國際硅光技術研討會在重慶召開，今（30）日，研討會上舉辦了聯合微電子中心有限責任公司（CUMEC公司）“180nm成套硅光工藝PDK”發佈會。重慶市各部門相關領導、中國電科科技部以及來自比利時、英國、國內多所大學、研究機構和企業的産學研界資深專家近300人參會，通過現場與線上相結合的形式，分享交流硅基光電子的技術優勢和應用前景，並對硅光技術研發面臨的機遇、挑戰及發展方向進行全方位的討論和展望。

CUMEC公司執行董事兼總經理韓建忠博士在現場致辭中表示，CUMEC公司2018年10月在重慶成立，次年9月就實現了8英寸硅基光電子技術工藝平臺的通線，發展十分迅速。本次正式向全球發佈“180nm成套硅光工藝PDK”，也標誌著公司具備硅基光電子領域全流程自主工藝製造能力，開始向全球提供硅光晶片流片服務和EPDA設計服務。

歐洲硅光聯盟主席、比利時根特大學教授、imec高級研究員Roel Baets從比利時發來線上致辭，他指出，硅基光電子技術作為一項新興技術正在快速發展，産業化速度亦在不斷加快，CUMEC公司發佈180nm成套硅光工藝PDK令人振奮，這是硅光技術領域的一件大事。“我希望日後可以有機會來到美麗山城重慶，來到創新進取的CUMEC公司，希望可以借助這一平臺，把更多的技術人才團結在一起，把更多的發展資源聚集在一起，促進硅光産業發展得更快更好。”他説。

隨後，重慶市高新區管委會副主任林金朝發表致辭並指出，硅基光電子技術能夠大大提高整合晶片的性能，是大數據、人工智慧、未來行動通訊等新興産業的基礎性支撐技術。近年來，高新區依託光電子和微電子器件及系統，國家創新基地在硅基光電子領域率先佈局，設立了聯合微電子中心，在科研基地、研發平臺、人才團隊、全流程封裝工藝等方面加大投入，初步具備了人才聚集能力、重大創新任務承接能力、公共創新平臺支撐能力和對外流片加工工藝能力，有助於完善重慶市積體電路産業鏈條，優化積體電路産業體系。

發佈會上，中國駐比利時大使曹忠明、比利時駐中國大使Marc Vinck、中國工程院院士吳漢明等關心支援CUMEC公司建設發展和硅光PDK發佈的領導、專家、合作夥伴紛紛發來祝福視頻。

主辦方表示，本次研討會的舉辦，加強了中歐在硅光技術領域的學術交流與合作，也有助於進一步提高國內硅光技術的研究和應用水準。

記者 佘振芳