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5月11日至6月11日，第十一屆哈瓦那雙年展在哈瓦那眾多藝術場館舉辦，來自43個國家180位藝術家的作品參展。
現身本屆雙年展的藝術家既有世界知名的奧地利藝術家赫爾曼-尼奇、俄羅斯藝術家拉夏普和卡巴科夫、美國藝術家安德烈斯-薩拉諾，也有眾多來自拉丁美洲、非洲、亞洲地區的藝術家。特別值得期待的是，本屆雙年展將推出一些集體展覽項目，其中包括來自中國藝術家金石的展品。此外，古巴的美術院校積極參與雙年展，他們將和來自世界各地的藝術家一起進行當代藝術創作經驗的交流和互動。
哈瓦那雙年展是古巴乃至拉美地區具有較大影響的當代藝術交流平臺。古巴造型藝術委員會主席魯本德巴耶稱，雙年展的舉辦是古巴革命勝利後文化政策成功實施的結果。